
- 文:Wa-People/李慧臻 Jane Lee
- 圖:Wa-People/編輯中心
- 2025.02.24
科林研發推出 ALTUS Halo ─ 這是全球首款利用金屬鉬的特性來生產先進半導體的原子層沉積(ALD)設備。

- 文:Wa-People/李慧臻 Jane Lee
- 圖:Wa-People/編輯中心
- 2025.02.19
英飛凌將於2025年第一季度向客戶供貨首批採用先進8 吋 SiC晶圓製程的產品。這些產品在位於奧地利菲拉赫的生產基地製造。


Since 2008 © All Rights Reserved.