為了加快完成繁複的IC驗證工作，順利進入量產階段，明導（Mentor Graphics）宣佈，該公司推出的Calibre Pattern Matching 解決方案，已有效展現效率，並獲得包括三星（Samsung）、eSilicon、和 中芯國際（SMIC）等公司的採用。
明導表示，Pattern Matching方案整合了所有 Calibre 工具和流程，用以促進物理驗證中的新應用程式、可製造性設計 (DFM)、良率提升以及失效分析，可整合到 Mentor Calibre nmPlatform 解決方案中，進而促進跨多個製程節點的 IC 設計公司和晶圓代工廠的新應用程式。
Calibre Pattern Matching 技術通過自動化的視覺幾何形狀辨識捕捉和對比工藝，可針對多層次操作及設計規則進行補充。此視覺化方案不僅能捕捉複雜的圖形關係，還能在混合不同應用工具的流程中進行工作，因此 Mentor 客戶能輕鬆創建新的應用程式，從而解決各類難題。
另外，由於Pattern Matching可以整合到 Calibre nmPlatform 工具集中，因此可以利用所有 Calibre 工具和流程的業內領先性能和精度，為設計規則檢查 (DRC)、可靠性檢查、DFM、良率提升以及失效分析創造新的機會。
自從引進 Calibre Pattern Matching 技術模型之後，可解決以往非常複雜或執行起來較為耗時的問題，其使用範圍也不斷快速擴張。新的使用案例包括以下內容：
