新思、台積合作 類比設計遷移通過2奈米認證

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圖說:新思科技與台積合作推動類比設計的遷移(Analog Design Migration),該合作遍及台積先進製程的參考流程(reference flow)。

新思科技近日宣佈其類比設計遷移流程(analog design migration flow),已經通過所有台積先進製程技術的認證,包括N4P、N3E與N2。此一類比設計遷移流程是新思科技客製化設計產品系列中的一環,內容包括將機器學習技術圖示化與布局模組化的遷移解決方案,以加速整體的類比設計遷移任務。此一設計遷移解決方案包括整合式寄生參數感知與AI驅動優化技術,可協助克服調教類比設計所需耗費的人力與迭代心力(iterative efforts)。工程師使用此一流程,可以在全新的技術節點上優化他們的設計,同時省下數週的工程作業時間與心力。

台積設計建構管理處負責人Dan Kochpatcharin表示:「我們最先進製程技術所帶來的效能與功耗優勢,可以幫助設計團隊實現創新晶片,從而滿足當前的智慧、連網與運算密集應用的大量需求。我們與新思科技有悠久的合作關係,持續為共同的客戶帶來顯著之生產力與產品上市時程優勢,而這些客戶目前都把既有的類比設計遷移到新世代的台積製程。」

新思科技EDA事業群策略與產品管理副總裁Sanjay Bali表示:「晶片越來越高的複雜性、工程資源的限制與緊縮的交付時程,正驅使企業轉向AI驅動的解決方案,以協助他們加速結果品質與結果效率。」他說:「我們與台積就其N4P、N3E與N2製程的類比設計遷移流程進行合作,讓雙方共同的客戶可以高效率地把設計從一個節點,遷移至另一個節點,以獲取更大幅度的生產力提升。」

促成類比與IP設計的高效率遷移

新思科技去年秋天獲得台積的開放創新平台(OIP)合作夥伴獎肯定;此獎項凸顯的成就包括通過認證的新思科技客製化設計產品系列,可提供AI驅動圖示與布局遷移能力,讓客戶從類比設計遷移至各個台積先進節點時,可以高效率地再利用現有IP。此類比設計遷移流程的關鍵元件,包括新思科技Custom Compiler客製化設計與布局解決方案、新思科技PrimeWave設計環境,以及新思科技PrimeSim電路模擬解決方案,而這些解決方案都針對台積所有的先進FinFET技術開發設計,可以為積體電路通用類比程式(SPICE)、FastSPICE與混合訊號模擬,提供效能上的優勢。

促進設計提早展開 

由於可相互操作製程設計套件(iPDKs)與客製化QuickStart套件(QSKs)是針對台積N4P、N3E 與N2製程調教,類比設計團隊可以利用它們提早展開專案,並啟動具高度生產力的開發路徑。使用iPDKs的客戶可以在他們的流程中使用這些同級產品中最佳的工具,而QSKs則可以減少迭代、簡化開發流程,並縮短周轉時間。此外,由新思科技與Ansys公司及是德科技合作開發、供台積N4P RF FinFET製程使用的RFIC參考流程,已經通過認證並推出上市,可供台積的客戶用來加速其射頻與mmWave設計。開放的射頻設計流程讓射頻與mmWave系統單晶片設計工程師,可以滿足效能、功耗效率與上市時程方面的需求。

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