專注半導體微影設備的艾司摩爾 (ASML) 2015第二季營收淨額為16.5億歐元，毛利率 45.6%，均略高於預期。該公司預估第三季營收淨額約15~16億歐元，毛利率 約45%。
ASML總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示，第二季的營收淨額略高於預期。來自記憶體和邏輯IC客戶的訂單相當平均。美國客戶在本季下單6台超紫外光(Extreme UV， 簡稱EUV)系統，其中有2台將於今年出貨，另外4台則於明年出貨。目前EUV系統在客戶端裝機已累積達8台，尚未出貨訂單還有8台。為了準備試產，近日許多客戶都不斷的在其EUV系統NXE:3300B系統上進行馬拉松測試。而ASML也已在總部Veldhoven設立全新的EUV廠房，隨時準備因應客戶將EUV導入量產時的大量機台需求。
溫彼得表示，從ASML的EUV技術進展來看，相信EUV已經來越接近可量產的階段。至於客戶何時會正式將EUV用於量產將取決於EUV系統在妥善率方面是否準備就緒，以及多重曝光技術的複雜度及整體成本考量。提高EUV系統的妥善率與整體生產力是當前聚焦的重點。
他指出，由於記憶體和晶圓代工客戶的需求較先前預估的強勁，且我們來自於服務方面的業務持續增加，下半年的業務審慎樂觀，全年表現將有機會高於預期。
ASML 表示，累計至2015年第二季，深紫外光浸潤式系統TWINSCAN NXT全球裝機量超過300台。新一代機台 的誤差改善了三成，晶圓產出速率也從每小時250片提高到275片，預計2015出貨。
