美商科磊(KLA-Tencor)針對 半導體先進製程10 奈米及以下的光罩技術推出了三款先進的光罩檢測系統，Teron 640、Teron SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實現目前和下一代光罩設計的關鍵，因此光罩和積體電路晶圓廠能夠更高效地辨識微影中顯著並嚴重損害良率的缺陷(defect)。
利用創新的雙重影像技術，Teron 640 檢測系統給光罩廠提供了必需的靈敏度，以對先進的光學光罩進行精準的品質檢定。Teron SL655 檢測系統採用全新的 STARlightGold 技術，協助積體電路製造商評估進料光罩的品質，監測光罩惡化，並檢測對良率至關重要的光罩缺陷。由 Teron 檢測機台所呈現的全面性光罩品質測量是由光罩決策中心 (RDC) 支援的，RDC 是一套資料分析與管理系統，具備多種功能，支援缺陷的自動分類處理決策，縮短生產週期，並減少會影響良率的與光罩相關的光罩圖案錯誤。
KLA-Tencor 的光罩產品事業部 (RAPID) 副總裁兼總經理熊亞霖博士表示：「現今的複雜的成像技術，例如隔板輔助四層成像 (SAQP)，採用越來越複雜的光罩，這使得檢定光罩品質並維持光罩狀況以實現最佳晶圓圖案成像至關重要。我們的團隊已經研發出最先進的光罩檢測與資料分析技術，將滿足目前和下一代的光罩設計的需求。透過將 Teron 640 和 Teron SL655 產生的豐富資料與 RDC 的評估功能結合起來，光罩和積體電路晶圓廠能夠更高效地辨識微影中顯著的光罩缺陷，進而改善光罩品質控制，並獲得更好的產品圖案成像。」
Teron 640 建立在光罩業界領先的 Teron 光罩檢測平台之上，透過採用193 奈米光照和雙影像模式-結合了高解析度檢測和基於空間影像(aerial image)曝印性(printability) 之缺陷識別-支援先進的光學光罩檢測。此外，Teron 640 還加強了先進的晶粒對資料庫 (die-to-database) 檢測演算法，以進一步提升缺陷靈敏度，並提供新的更高產能選項，以縮短獲取結果的時間。多套 Teron 640 光罩檢測系統已經安裝在晶圓代工廠和邏輯電路工廠中，用於高效能光罩的品質控制。
Teron SL655 的核心技術 STARlightGOLD 能夠在光罩進料品質檢查時從光罩產生黃金參考，然後使用此參考進行爾後光罩合格性的重驗。這種獨特的技術實現了全域光罩覆蓋，並且創造最佳缺陷檢測率，例如析出物增長或污染，藉此支援包括採用高度複雜的光學近接效應修正在內的各種光罩類型。Teron SL655 擁有業界領先的產能，可支援更快的生產週期所需檢測更多數量的光罩，滿足先進的多重曝影光罩技術的需要。此外，Teron SL655 與極紫外線 (EUV) 檢測技術相容，能夠與積體電路製造商及早合作，滿足晶圓廠對 EUV 光罩的要求。在進料光罩品質控制和晶片生產過程中的光罩合格性重驗方面，Teron SL655 系統正在接受積體電路製造商的評估。
RDC 是一套綜合資料分析及儲存平台，支援光罩廠和晶圓廠的 數種KLA-Tencor 光罩檢測與量測平台。RDC 可以提供包括自動缺陷分類 (ADC) 在內的數種應用，ADC與檢測機台可同時執行，而微影平面檢視 (LPR) 則用於光罩檢測機台所偵測缺陷的曝印性分析。這些應用可以使得缺陷識別自動化，從而改善生產週期，並減少關鍵性錯誤。RDC 已被多家代工廠和記憶體製造商採納，用於光罩合格檢驗過程中的資料管理和分析。
Teron 640、Teron SL655 和 RDC 與 LMS IPRO6 光罩圖案位置量測系統和 K-T Analyzer® 先進資料分析系統一起，形成了全面的光罩合格性檢定解決方案，以支援先進的光罩和積體電路製造商。Teron 640、Teron SL655 和 RDC 也是 KLA-Tencor 的 5D圖案成型控制解決方案的關鍵組成部分，它可以協助積體電路製造商透過對整個晶圓廠和光罩廠的製程監測與控制獲得更好的圖案成像的績效。
圖說：美商科磊台灣分公司總經理王聰輝。
