圖說：力成科技於 25 日舉行新竹科學園區三廠動土典禮
半導體後段封裝及測試服務廠力成科技於 25 日舉行新竹科學園區三廠動土典禮，由力成科技董事長蔡篤恭主持。 力成科技於新竹科學園區之高階封裝新廠建設計畫，估計投資的總金額將達新台幣五百億元，計畫在基地面積約 8，000 坪的土地上興建地上八層，地下兩層，全球第一座使用面板級扇出型封裝(Fan-Out Panel-Level Packaging， FOPLP)製程的量產基地。工程預計於二○二○年上半年完成，，並將於二○二○年下半年開始裝機量產，未來將可新增約 3，000 多個優質的工作機會。
近年來力成科技致力於研發面板級扇出型封裝的製程，該技術即是提供客戶後摩爾定律的解決方案之一。力成科技看好面板級扇出型封裝技術未來的發展，因其優點包括:可降低封裝厚度、能增加導線密度、可提升產品電性、面板大工作平台可提高生產效率、電晶體微型將具備開發時間短與成本低等優勢。扇出型封裝將可運用於 5G，、AI、 生技、自駕車、智慧城市及物聯網等的相關產品上，並對其未來產品的推廣有明顯的助益。
力成科技開發的面板級扇出型封裝技術，將可提供客戶最佳的系統級封裝 (System inPackage， SiP)解決方案。此技術有兩項重要的特色，其一為封裝內的晶片間，以極細的線路加以連結，線寬/線距可以達到 2um/2um，這可將不同晶片更靠近排列，可以大幅提升效能，適用於高頻寬需求產品的 SiP 封裝製程上。另外一個重要的特色就是，製程上採用了面板等級的大尺寸工作平台 (Panel Level)。 現有的晶圓扇出型封裝技術，以 12 吋晶圓為工作平台進行封裝，同一時間能處理的晶片封裝數量，作業面積將局限在 12 吋晶圓大小;面板級扇出型封裝技術能加大封裝所使用工作平台上的面積，例如把工作平台的面積增加到 20 吋以上的面板級尺寸，將可同時封裝更多個晶片，可以有更高的封裝生產效率，使產品更具有市場競爭力。
董事長蔡篤恭表示，面板級扇出型封裝技術將對全球半導體產業帶來巨大影響。
在後摩爾時代，先進的封裝技術將更提升後段製程於半導體產業的重要性。面板級扇出型封裝技術將增加力成科技對客戶的服務項目，
進而能提供跨產品線的整合服務，為公司的永續發展開啟新的契機。
力成科技竹科三廠將採用綠建築工序，強調生態的平衡、保育、物種多樣化、資源回收再利用、再生能源及節能等永續發展，具有減輕環境負荷，達成與環境共生、共榮、共利的目標。
無塵室採用次潔淨室(subfab)的設計概念將可達到產能極大化、減少水損及二次施工影響、降低無塵室污染源、避免化學品在人員作業區發生洩漏的風險。附屬機台建置在次潔淨室，將可有效斷絕設備的震動對生產機台的影響，並提升產品製程的精密度。
