應用材料突破性新機 3D元件量測系統
圖說:應用材料公司推出業界首創的產線用3D臨界尺寸量測掃描式電子顯微鏡(3DCDSEM)量測系統NewVeritySEM5i。■文:Wa-People/洪瑞英RaeHung■圖:Wa-People/編輯中心應用材料公司近期在加州聖荷西市舉行的國際光學工程學會(SPIE)先進微影技術研討會上,推出業界首創的產線用3D臨界尺寸量測掃描式電子顯微鏡(3DCDSEM)量測系統,在測量3D快閃記憶體(3DNAND)和鰭式場效電晶體(FinFET)元件的高深比及複雜功能上,能有效克服瓶頸。最新的AppliedVeritySEM5i系統,提供先進的高解析度影像及背向散射電子(BSE)技術,以實現優異的產線CD控制。使用VeritySEM5i系統,可加速晶片製造商製程開發及產量提升,改善量產後的元件效能及良率。





