艾司摩爾 (ASML) 近期宣布其 NXE:3300B EUV極紫外光(EUV)微影系統在在TSMC成功達到單日曝光超過1,000片晶圓的目標，不但再次刷新EUV微影系統生產力新紀錄，更為EUV微影技術用於先進製程量產注入強心針。
TSMC研發處長嚴濤南於美西舉行的SPIE先進微影論壇中指出 :「在我們近期的一項測試中，成功使用ASML的NXE:3300B 極紫外光微影系統於24小時內，以超過90瓦的穩定光源功率(source power) 連續曝光1,022片晶圓。我們很滿意這項測試結果，而這也讓我們看到ASML EUV微影系統的潛力。」
目前TSMC已安裝2台NXE:3300B極紫外光微影系統，另有2台新一代極紫外光微影系統NXE:3350B將於今年完成出貨。原先已安裝的2台NXE:3300B也將升級到NXE:3350B的效能。
ASML EUV服務及產品行銷副總裁Hans Meiling表示 :「在TSMC完成的這項測試結果不僅證明NXE:3300B極紫外光微影系統的效能無庸置疑，也讓我們對於在2015年底前達成單日曝光1,000片晶圓的目標深具信心。我們將會持續提高光源功率、提升系統妥善率(availability)，並盡力在各個客戶端達到相同的測試結果。」
